ASML EUV: Fuente 1000W aumenta chips 50% para 2030

hoy 19:02 • Innovacion • Evelyn Nakamura

El avance de la fuente de luz EUV de 1000 vatios de ASML podría aumentar la producción de chips 50% para 2030, manteniendo el liderazgo tecnológico holandés ante la competencia de semiconductores EE.UU.-China y restricciones de exportación.

Avance de ASML en EUV: Fuente de 1000W aumenta chips 50% para 2030

ASML, gigante holandés de semiconductores, anunció en febrero 2026 un avance en litografía EUV que podría aumentar la producción de chips hasta 50% para 2030, al elevar la potencia de la fuente de luz de 600 a 1.000 vatios.

¿Qué es el avance tecnológico de EUV de ASML?

ASML mejoró la fuente de luz en sus máquinas EUV al duplicar la tasa de gotas de estaño a 100.000 por segundo e implementar un sistema láser de doble pulso. 'Es un sistema que produce 1.000 vatios en condiciones reales,' dijo Michael Purvis de ASML a Reuters.

Especificaciones técnicas e impacto en la fabricación

El aumento del 66% en potencia permite:

Rendimiento: De 220 a 330 obleas/hora
Reducción de costos para TSMC, Intel, Samsung
Implementación completa para 2030, inicio en 2027
Hoja de ruta hacia 1.500W y 2.000W

Cómo funciona la tecnología

EUV usa luz de 13,5nm generada por láseres en gotas de estaño. ASML controla el proceso con pulsos duales para mayor potencia.

Importancia estratégica en la competencia global de semiconductores

En medio de la guerra comercial de semiconductores EE.UU.-China, ASML mantiene su monopolio en EUV. 'La fuente de luz es el componente más desafiante,' según Reuters.

Análisis del panorama competitivo

Competidor	Tecnología	Estado	Cronograma
ASML (Países Bajos)	EUV por plasma láser	Comercial a 1.000W	Ahora
China	Plasma por descarga	Prototipo	2026-2027
EE.UU.	Alternativas	Investigación	2030+

Implicaciones geopolíticas y restricciones de exportación

Presiones de EE.UU. para restringir exportaciones a China. La cadena de suministro global de semiconductores depende de ASML.

Impacto económico y respuesta de la industria

Mayor producción para:

Procesadores de IA
Smartphones
Sistemas automotrices
Centros de datos

Perspectiva futura y hoja de ruta tecnológica

ASML planea llegar a 1.500W y 2.000W. El ecosistema de fabricación de semiconductores debe adaptarse.

Preguntas frecuentes

¿Qué es la litografía EUV?

Tecnología para fabricar chips avanzados con luz de 13,5nm.

¿Cuánto aumentará la producción?

Hasta 50% más chips para 2030.

¿Cuándo estará disponible?

Implementación gradual desde 2027, completa en 2030.

¿Por qué es importante?

Mantiene liderazgo occidental, reduce costos, aborda suministro.

¿Afectará precios?

Sí, costos más bajos podrían llevar a chips más baratos.

Fuentes

Reuters: Avance de ASML en fuente EUV
Global Banking & Finance: Detalles del avance
TechPowerUp: Especificaciones técnicas
U.S. News: Análisis competitivo